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Analyse thermodynamique des processus de croissance de la couche épitaxiale

Le Pitch
Ce travail propose une analyse thermodynamique des processus de croissance des couches épitaxiales du composé semi-conducteur Ga2Se3 à partir de la phase gazeuse. Il inclut la modélisation des processus technologiques pour la prévision des variantes technologiques possibles et la détermination des conditions optimales pour la synthèse de ce composé. Les résultats des recherches sur les paramètres thermodynamiques du système Ga - Se - Cl - H sont présentés, ainsi que le lien entre ces variables et les paramètres technologiques du processus de synthèse du Ga2Se3. Le schéma de calcul des paramètres technologiques du processus de croissance des couches épitaxiales de Ga2Se3 est illustré. Afficher moinsAfficher plus

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Ce travail propose une analyse thermodynamique des processus de croissance des couches épitaxiales du composé semi-conducteur Ga2Se3 à partir de la phase gazeuse. Il inclut la modélisation des processus technologiques pour la prévision des variantes technologiques possibles et la détermination des conditions optimales pour la synthèse de ce composé. Les résultats des recherches sur les paramètres thermodynamiques du système Ga - Se - Cl - H sont présentés, ainsi que le lien entre ces variables et les paramètres technologiques du processus de synthèse du Ga2Se3. Le schéma de calcul des paramètres technologiques du processus de croissance des couches épitaxiales de Ga2Se3 est illustré. Afficher moinsAfficher plus

Détails du livre

Titre complet
Analyse thermodynamique des processus de croissance de la couche épitaxiale: connexion semi-conductrice de Ga2Se3 par la méthode du tube ouvert dans le système de transport de gaz Ga-Se-Cl-H
Editeur
Format
Broché
Publication
01 septembre 2020
Pages
60
Taille
22.9 x 15.2 x 0.4 cm
Poids
103
ISBN-13
9786202588959

Auteur

Livré entre : 6 juillet - 11 juillet
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