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Nouvelle technologie pour depot des couches minces

Audience : Adulte - Haut niveau
Le Pitch
Ce livre présente une étude sur la simulation du rendement de pulvérisation des atomes de cuivre et d'argent dans un plasma d'argon lors du dépôt de couches minces. L'auteur a développé un modèle numérique basé sur la méthode de Monte Carlo, prenant en compte la marche aléatoire des ions d'argon, les paramètres du faisceau d'ions et les caractéristiques de la matière cible. Les résultats obtenus ont été comparés à des données de la littérature et se sont révélés conformes. Afficher moinsAfficher plus

Nouvelle technologie pour depot des couches minces

59,00 €
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Le Pitch

Ce livre présente une étude sur la simulation du rendement de pulvérisation des atomes de cuivre et d'argent dans un plasma d'argon lors du dépôt de couches minces. L'auteur a développé un modèle numérique basé sur la méthode de Monte Carlo, prenant en compte la marche aléatoire des ions d'argon, les paramètres du faisceau d'ions et les caractéristiques de la matière cible. Les résultats obtenus ont été comparés à des données de la littérature et se sont révélés conformes. Afficher moinsAfficher plus

Détails du livre

Titre complet
Nouvelle Technologie Pour Depot Des Couches Minces: Rendement de pulvérisation cathodique
Auteur
Editeur
Format
Broché
Publication
01 septembre 2018
Audience
Adulte - Haut niveau
Pages
176
Taille
22.9 x 15.2 x 1 cm
Poids
268
ISBN-13
9783838173979
Livré entre : 14 décembre - 19 décembre
Livraison gratuite (FR) à partir de 35,00 € de livres neufs
Retour GRATUIT sous 14 jours.
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