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Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium

Audience : Adulte - Haut niveau
Le Pitch
Ce livre aborde en détail les techniques d'implantation ionique et de traitements thermiques appliqués à la technologie du silicium. Il s'adresse aux professionnels et aux chercheurs travaillant dans le domaine de la microélectronique et de la photonique. L'auteure, Annie Baudrant, experte reconnue, propose une analyse approfondie des procédés, des mécanismes physiques en jeu et des applications industrielles. Cet ouvrage constitue une référence incontournable pour quiconque souhaite approfondir ses connaissances dans ce domaine en constante évolution. Afficher moinsAfficher plus

Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium

99,00 €
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Le Pitch

Ce livre aborde en détail les techniques d'implantation ionique et de traitements thermiques appliqués à la technologie du silicium. Il s'adresse aux professionnels et aux chercheurs travaillant dans le domaine de la microélectronique et de la photonique. L'auteure, Annie Baudrant, experte reconnue, propose une analyse approfondie des procédés, des mécanismes physiques en jeu et des applications industrielles. Cet ouvrage constitue une référence incontournable pour quiconque souhaite approfondir ses connaissances dans ce domaine en constante évolution. Afficher moinsAfficher plus

Détails du livre

Titre complet
Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium
Editeur
Format
Relié
Publication
15 février 2011
Audience
Adulte - Haut niveau
Pages
364
Taille
23.4 x 15.6 x 1.6 cm
Poids
770
ISBN-13
9782746231306
Livré entre : 3 juillet - 8 juillet
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